用于有选择地在微电子衬底上沉积薄膜的自对准的金属掩模组件以及使用方法

摘要

所讨论的本发明涉及用于有选择地在微电子衬底和器件上沉积薄膜的自对准的金属掩模组件，包括下列部件：a)上部金属掩模，所述上部金属掩模带有限定要金属化的图案的小孔或区域，所述金属掩模具有对中孔，b)下部金属掩模，该下部金属掩模带有与所要金属化的衬底或器件相同大小和形状的小孔，以及用于为组件对中的辅助孔的，c)构件或基部，该构件或基部设有用于对中上方部件与辅助孔的对应的杆，上部构件或框架，该上部构件或框架用于通过螺钉和轻微压力固定整个组件并保持整个组件对齐。组件又可固定到沉积机器的样本容器。