首页> 中国专利> 一种方酸菁染料敏化纳米晶膜电极的制备

一种方酸菁染料敏化纳米晶膜电极的制备

摘要

本发明设计并合成了一类性能优异的方酸菁染料,将其用于染料敏化的太阳能电池中,得到了很好的光电池性能测试结果。本发明所使用的不对称方酸菁染料敏化剂采用分步法合成,设计的分子合理,分子光稳定性高。合成的目标产物所含副产物少,且易于分离纯化。所设计的方酸菁染料分子均含羧基,可以与纳米晶膜电极表面形成吸附,在光电材料领域及生物分子检测领域具有很好的应用前景。

著录项

  • 公开/公告号CN101763945A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2010-06-30

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 江南大学;

    申请/专利号CN200910033113.0

  • 发明设计人 陈秀英;赵小琴;

    申请日2009-06-12

  • 分类号H01G9/042;H01G9/20;H01M14/00;B82B3/00;

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 214122 江苏省无锡市滨湖区蠡湖大道1800号

  • 入库时间 2023-12-18 00:18:34

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2012-03-21

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):H01G9/042 公开日:20100630 申请日:20090612

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2010-08-25

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01G9/042 申请日:20090612

    实质审查的生效

  • 2010-06-30

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号