首页> 中国专利> Nb-Si-N纳米双相结构表面传导电子发射薄膜的制备方法

Nb-Si-N纳米双相结构表面传导电子发射薄膜的制备方法

摘要

本发明涉及表面传导电子发射薄膜材料,公开了一种Nb-Si-N纳米双相结构表面传导电子发射薄膜的制备方法。它包括以下步骤:在N

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2012-09-05

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):C23C14/35 公开日:20100714 申请日:20100325

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2010-09-15

    实质审查的生效 IPC(主分类):C23C14/35 申请日:20100325

    实质审查的生效

  • 2010-07-14

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号