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掩模相关基板的洗净方法、洗净方法及洗净液供给装置

摘要

本发明涉及一种掩模相关基板的洗净方法,当根据纯水来洗净从被硫酸离子污染后的掩模用基板、空白掩模、掩模及这些物品的制造中间体中选择出来的掩模相关基板时,对在该洗净中所使用的纯水预先将溶解气体脱气。本发明还涉及一种洗净液供给装置和一种洗净方法,该方法是将洗净液供给至洗净装置中来洗净被洗净基板,当利用用以除去异物的过滤器来过滤洗净液,并将过滤后的洗净液通过供给管供给至洗净装置中来洗净被洗净基板时,至少在将过滤后的洗净液往洗净装置供给之前,先使过滤后的洗净液通过排出管往系统外部排出,之后才将过滤后的洗净液通过供给管供给至洗净装置中。本发明能简便地提高硫酸离子的洗净效率,进而能极度地减少微小异物的发生量。

著录项

  • 公开/公告号CN101716581A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2010-06-02

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 信越化学工业株式会社;

    申请/专利号CN200910179006.9

  • 发明设计人 沼波恒夫;

    申请日2009-10-09

  • 分类号B08B3/10;B08B13/00;

  • 代理机构隆天国际知识产权代理有限公司;

  • 代理人冯志云

  • 地址 日本东京

  • 入库时间 2023-12-17 23:57:08

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2013-08-28

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):B08B3/10 申请公布日:20100602 申请日:20091009

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2010-08-25

    实质审查的生效 IPC(主分类):B08B3/10 申请日:20091009

    实质审查的生效

  • 2010-06-02

    公开

    公开

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