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用于校正粒子光学装置中的畸变的方法

摘要

本发明涉及用于校正粒子光学装置中的畸变的方法。本发明涉及一种用于校正由TEM的投影系统(106)引起的畸变的方法。本领域技术人员知道,畸变可能限制TEM的分辨率,特别是当利用X射线断层摄影术对特征进行3D重建时。而且,当在TEM中利用应变分析时,畸变会限制应变的检测。为此,本发明公开了一种装配有多极(152)的检测器,该多极以抵消投影系统引起的畸变的方式使TEM的图像歪曲。该检测器还可以包括用于检测电子的CCD或者荧光屏(151)。

著录项

  • 公开/公告号CN101685754A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2010-03-31

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 FEI公司;

    申请/专利号CN200910173281.X

  • 申请日2009-09-22

  • 分类号H01J37/26;H01J37/252;H01J37/244;

  • 代理机构中国专利代理(香港)有限公司;

  • 代理人王岳

  • 地址 美国俄勒冈州

  • 入库时间 2023-12-17 23:48:38

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2014-05-14

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):H01J37/26 申请公布日:20100331 申请日:20090922

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2011-11-23

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01J37/26 申请日:20090922

    实质审查的生效

  • 2010-03-31

    公开

    公开

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