首页> 中国专利> 具有醚键且含有烯属不饱和基的异氰酸酯化合物的制造方法

具有醚键且含有烯属不饱和基的异氰酸酯化合物的制造方法

摘要

本发明提供在醚键不易断裂、且能够抑制不饱和基聚合的条件下,制造具有醚键且含有烯属不饱和基的异氰酸酯化合物的方法。本发明的具有醚键且含有烯属不饱和双键的异氰酸酯化合物的制造方法,是由具有醚键的氨基醇制造具有醚键且含有烯属不饱和双键的异氰酸酯化合物的方法,其特征在于,使用25℃下的氯化氢溶解度为0.1摩尔%以下的反应溶剂。

著录项

  • 公开/公告号CN101679221A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2010-03-24

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 昭和电工株式会社;

    申请/专利号CN200880015630.9

  • 发明设计人 野泽金男;大野胜俊;服部阳太郎;

    申请日2008-05-19

  • 分类号C07C263/10;C07C265/04;

  • 代理机构北京市中咨律师事务所;

  • 代理人段承恩

  • 地址 日本东京都

  • 入库时间 2023-12-17 23:48:38

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2014-08-13

    发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):C07C263/10 申请公布日:20100324 申请日:20080519

    发明专利申请公布后的驳回

  • 2010-05-05

    实质审查的生效 IPC(主分类):C07C263/10 申请日:20080519

    实质审查的生效

  • 2010-03-24

    公开

    公开

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