公开/公告号CN101657760A
专利类型发明专利
公开/公告日2010-02-24
原文格式PDF
申请/专利权人 ASML荷兰有限公司;
申请/专利号CN200880009369.1
发明设计人 M·M·J·W·范赫彭;
申请日2008-03-20
分类号G03F7/20;H05G2/00;
代理机构中科专利商标代理有限责任公司;
代理人王新华
地址 荷兰维德霍温
入库时间 2023-12-17 23:31:30
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2013-02-27
发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):G03F7/20 申请公布日:20100224 申请日:20080320
发明专利申请公布后的视为撤回
2010-04-28
实质审查的生效 IPC(主分类):G03F7/20 申请日:20080320
实质审查的生效
2010-02-24
公开
公开
机译: 用于产生电磁辐射的辐射源和用于产生电磁辐射的方法
机译: 用于辐射源的靶,用于产生侵入性电磁辐射的辐射源,辐射源的用途以及用于制造用于辐射源的靶的方法
机译: 用于辐射源的靶,用于产生侵入性电磁辐射的辐射源以及用于制造用于辐射源的靶的方法