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一类氧化物多层梯度薄膜及其构建的RRAM元器件

摘要

本发明提供一种用于电阻式随机存取存储器(RRAM)元器件的氧化物多层梯度薄膜,所述的梯度薄膜具有电阻转变特性,所述的氧化物多层梯度薄膜具有电阻转变特性,其组成通式为:MOx-δ/MOx-δ(N-2)/(N-1)/…/MOx-δ/(N-1)/MOx,式中MOx为二元或多元氧化物,N为氧化物梯度薄膜的总层数,N≥3;δ为底层氧化物薄膜的氧空位含量,1≤δ<x。所述的MOx为TiO2、ZnO、MgO、Al2O3或SrTiO3。由所述的多层梯度薄膜构建成RRAM元器件,N≥3的不同层数的氧化物梯度薄膜可实现可逆电阻转变和记忆特性,随层数N的增加,初始化电压逐渐减小,高电阻值达MΩ量级,而低电阻为10欧姆,高低阻比值达102~105。在连续电压扫描激励下,呈现出优异的、稳定的高低阻态转变和记忆特性。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2012-07-18

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):H01L45/00 公开日:20100106 申请日:20090721

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2010-03-24

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2010-01-06

    公开

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