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磁盘装置、磁盘介质、磁头以及磁道跟踪方法

摘要

本发明涉及使磁头高精度地跟踪形成于离散介质或晶格介质上的磁道的磁盘装置、磁盘介质、磁头以及磁道跟踪方法,该磁盘装置包括:磁盘介质,其表面具有伺服专用磁道和数据专用磁道、以及进行不同于各磁道的光反射的介质主体露出的部分;以及磁头,其同时搭载有检测该磁盘介质的反射状态的光检测器、以及对数据专用磁道进行磁记录/再生处理的写入/读出元件。

著录项

  • 公开/公告号CN101573757A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2009-11-04

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 富士通株式会社;

    申请/专利号CN200780048966.0

  • 发明设计人 铃木启之;

    申请日2007-01-12

  • 分类号G11B21/10;G11B5/60;

  • 代理机构北京三友知识产权代理有限公司;

  • 代理人黄纶伟

  • 地址 日本神奈川县

  • 入库时间 2023-12-17 22:53:02

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2012-03-21

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):G11B21/10 公开日:20091104 申请日:20070112

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2010-01-27

    专利申请权、专利权的转移(专利申请权的转移) 变更前: 变更后: 登记生效日:20091225 申请日:20070112

    专利申请权、专利权的转移(专利申请权的转移)

  • 2009-12-30

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2009-11-04

    公开

    公开

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