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大面积亚微米有序结构图形的生成方法

摘要

本发明公开了一种大面积亚微米有序结构图形的生成方法,涉及微纳米级制造领域,其特征在于包括:首先,在清洁的初制衬底表面化学键合或物理吸附一层符合大小与形状要求的单层粒子;然后,在所述衬底及单层粒子上沉积生成金属薄膜层;继而,采用适当的有机溶剂溶解该单层粒子,并将单层粒子连同沉积在其表面的金属薄膜一并剥离,在初制衬底表面形成金属掩膜图形;最后,采用适当的方法将金属掩膜图形转移到实需衬底,生成有序的亚微米结构图形,并将掩模金属层去除。实施本发明大面积亚微米有序结构图形的生成方法,其具有结构图形的生成灵活可控、衬底选择性广、大面积生成易于实现,及成本低廉和无需昂贵加工设备的有益效果。

著录项

  • 公开/公告号CN101549851A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2009-10-07

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 苏州纳米技术与纳米仿生研究所;

    申请/专利号CN200910025235.5

  • 发明设计人 张瑞英;王强斌;杨辉;董建荣;

    申请日2009-02-25

  • 分类号B82B3/00;B81C1/00;

  • 代理机构南京苏科专利代理有限责任公司;

  • 代理人陈忠辉

  • 地址 215125 江苏省苏州市工业园区独墅湖高教区若水路398号

  • 入库时间 2023-12-17 22:44:28

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2012-08-15

    发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):B82B3/00 公开日:20091007 申请日:20090225

    发明专利申请公布后的驳回

  • 2010-10-20

    专利申请权的转移 IPC(主分类):B82B3/00 变更前: 变更后: 登记生效日:20100907 申请日:20090225

    专利申请权、专利权的转移

  • 2009-12-02

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2009-10-07

    公开

    公开

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