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用于控制高真空处理系统中的基板的温度的装置和方法

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公开了用于改进高真空处理系统、例如离子束蚀刻(IBE)系统中的被支撑件例如基板的温度控制的装置和方法。该装置包括热电装置(70)，所述热电装置(70)将热从支撑被支撑件(20)的支撑件(42)传递到液体冷却的热交换件(44)，以调节支撑件(42)的温度。该方法包括利用热电装置(70)冷却支撑件(42)，所述热电装置(70)将热传递到液体冷却的热交换件(44)。

著录项

公开/公告号CN101536148A

专利类型发明专利
公开/公告日2009-09-16

原文格式PDF
申请/专利权人威科仪器有限公司;
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申请/专利号CN200780028834.1
发明设计人 T·A·卢斯;R·弗莱姆根;W·J·米勒;A·塞拉鲁;
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申请日2007-06-08
分类号H01L21/00(20060101);H01L21/687(20060101);
代理机构72002 永新专利商标代理有限公司;
代理人蔡洪贵
地址美国纽约
入库时间 2023-12-17 22:36:00

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2010-03-17

发明专利申请公布后的视为撤回

发明专利申请公布后的视为撤回
2009-09-16

公开

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1. 用于控制高真空处理系统中的基板的温度的装置和方法 [P] . 中国专利： CN101536148A . 2009-09-16
2. 用于保持基板的载体、载体在处理系统中的使用、应用载体的处理系统、及用于控制基板的温度的方法 [P] . 中国专利： CN108292619A . 2018-07-17
3. Carrier for holding a substrate, use of the carrier in a processing system, processing system using the carrier, and method for controlling the temperature of the substrate [P] . 日本专利： JP2019501515A . 2019-01-17

机译：用于保持基板的载体，该载体在处理系统中的用途，使用该载体的处理系统以及用于控制基板温度的方法
4. Carrier for holding a substrate, use of the carrier in a processing system, processing system using the carrier, and method for controlling the temperature of the substrate [P] . 日本专利： JP6620234B2 . 2019-12-11

机译：用于保持基板的载体，该载体在处理系统中的用途，使用该载体的处理系统以及用于控制基板温度的方法
5. A carrier for holding a substrate, the use of a carrier in the processing system, a processing system using the carrier, and a method for controlling the temperature of the substrate [P] . 韩国专利： KR20180064505A . 2018-06-14

机译：用于保持基板的载体，该载体在处理系统中的使用，使用该载体的处理系统以及用于控制基板温度的方法