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显影后抗蚀基板处理溶液及使用它的抗蚀基板处理方法

摘要

本发明提供了一种用于改善显影后图案表面上瑕疵的抗蚀基板处理溶液,还提供了一种使用该处理溶液的抗蚀基板处理方法。该抗蚀基板处理溶液包含溶剂和含氮水溶性聚合物或含氧水溶性聚合物如聚胺、多羟基化合物或聚醚。该处理方法中,用该抗蚀基板处理溶液处理显影后的抗蚀图,然后用纯水洗涤。

著录项

  • 公开/公告号CN101523295A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2009-09-02

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 AZ电子材料(日本)株式会社;

    申请/专利号CN200780037797.0

  • 发明设计人 能谷刚;岛崎龙太;小林政一;

    申请日2007-10-12

  • 分类号G03F7/32;H01L21/304;H01L21/027;

  • 代理机构北京三幸商标专利事务所;

  • 代理人刘激扬

  • 地址 日本国东京都

  • 入库时间 2023-12-17 22:36:00

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2012-04-18

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):G03F7/32 公开日:20090902 申请日:20071012

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2009-10-28

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2009-09-02

    公开

    公开

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