公开/公告号CN101523295A
专利类型发明专利
公开/公告日2009-09-02
原文格式PDF
申请/专利权人 AZ电子材料(日本)株式会社;
申请/专利号CN200780037797.0
申请日2007-10-12
分类号G03F7/32;H01L21/304;H01L21/027;
代理机构北京三幸商标专利事务所;
代理人刘激扬
地址 日本国东京都
入库时间 2023-12-17 22:36:00
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2012-04-18
发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):G03F7/32 公开日:20090902 申请日:20071012
发明专利申请公布后的视为撤回
2009-10-28
实质审查的生效
实质审查的生效
2009-09-02
公开
公开
机译: 碱性溶液和制造方法,以及适用于图案形成方法,抗蚀膜去除方法,溶液应用方法,基板处理方法,溶液供应方法和半导体器件制造方法的碱性溶液
机译: 碱性溶液的制备方法,由此制备的碱性溶液,形成图案的方法,抗蚀膜的剥离方法,液体化学品的施加装置,基板的处理方法和液体化学品的供给方法
机译: 碱溶液的制备方法由此制备的碱溶液的形成方法,用于液体化学的抗蚀膜剥离装置的图案形成方法,用于处理基板的方法,用于液体的供给方法