法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2011-11-30
发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):A61K8/81 公开日:20090826 申请日:20070917
发明专利申请公布后的视为撤回
2009-10-21
实质审查的生效
实质审查的生效
2009-08-26
公开
公开
机译: 使用免洗阴离子着色聚电解质进行染发工艺。
机译: 用于在固定衬底即超纯硅晶片上使用的阴离子聚电解质层的制造方法,涉及在衬底表面的聚电解质水溶液中提供能量以在层中分离聚电解质。
机译: 使用阴离子有色聚合物染发的方法