首页> 中国专利> 新的多面体低聚倍半硅氧烷(POSS)基荧光着色剂

新的多面体低聚倍半硅氧烷(POSS)基荧光着色剂

摘要

提供了新的荧光多面体低聚倍半硅氧烷(POSS)着色剂。该着色剂发强荧光并长期持续,具有优异的光稳定性。该新的着色剂可以用在普通颜料中的生色团来制备,并且提供了一种简单方式来将不溶的颜料转化为可溶的荧光着色剂。

著录项

  • 公开/公告号CN101501144A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2009-08-05

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 西巴控股有限公司;

    申请/专利号CN200780029297.2

  • 申请日2007-07-27

  • 分类号C09B67/00(20060101);C08K9/04(20060101);C08K3/34(20060101);C08L83/04(20060101);

  • 代理机构72001 中国专利代理(香港)有限公司;

  • 代理人吕彩霞;范赤

  • 地址 瑞士巴塞尔

  • 入库时间 2023-12-17 22:27:31

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-09-21

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C09B67/00 授权公告日:20130619 终止日期:20150727 申请日:20070727

    专利权的终止

  • 2013-06-19

    授权

    授权

  • 2009-10-07

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2009-08-05

    公开

    公开

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