制备硼硅酸盐玻璃体上的耐擦拭抗反射层的方法

摘要

本发明公开了一种制备硼硅酸盐玻璃体上的耐擦拭抗反射层的方法，其中，使用组成为1～6重量％的HCl、0.5～7重量％的SiO2溶胶(固含量)、0.5～5重量％的H2O、85～98重量％的易挥发水溶性有机溶剂的涂覆溶液。适合于涂覆的玻璃包含(基于氧化物以重量％计)63～76的SiO2，＞11～20的B2O3，1～9的Al2O3，3～12的碱金属氧化物，0～10的碱土金属氧化物，0～2的ZnO，0～5的TiO2，0～1的ZrO2，0～1的Nb2O5和0～1的WO3。