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用于防止在微阵列扫描中的过分曝光和光泄漏的掩模

摘要

微阵列的扫描是通过能够曝光微阵列上的多个但不是所有位置的掩模来实现的,并且掩模可相对于微阵列移动或者微阵列可相对于掩模移动,或者两者兼之。掩模作为在扫描头的行进处于待机、目标速度时限制对能够照明的微阵列上的微阵列位置的照明的部件是十分有用的,它能够在扫描头轨迹中的一些扫描头加速或者减速的点上阻止光在扫描头和微阵列之间的通过。通过防止光泄漏到与正在扫描的位置相邻的位置上,掩模可以十分有效地减小在微阵列成像中的背景噪声。

著录项

  • 公开/公告号CN101507256A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2009-08-12

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 生物辐射实验室股份有限公司;

    申请/专利号CN200680045923.2

  • 发明设计人 D·Y·楚;

    申请日2006-12-04

  • 分类号H04N1/04(20060101);G01J1/58(20060101);G01N21/63(20060101);G02B26/10(20060101);

  • 代理机构31100 上海专利商标事务所有限公司;

  • 代理人刘佳

  • 地址 美国加利福尼亚州

  • 入库时间 2023-12-17 22:23:16

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2011-07-13

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):H04N1/04 公开日:20090812 申请日:20061204

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2009-10-07

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2009-08-12

    公开

    公开

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