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用于制造透明电极图案的方法和用于制造具有所述透明电极图案的电光装置的方法

摘要

本发明提供一种用于制造透明电极图案的方法以及一种用于制造具有所述透明电极图案的电光装置的方法。所述用于制造所述透明电极图案的方法包含:在透光衬底上形成透明电极;通过移除所述透明电极的一部分来图案化所述透明电极;以及通过印刷工艺在所述经图案化透明电极的边缘区域中形成绝缘保护层。根据所述方法,通过所述印刷工艺在所述经图案化透明电极的所述边缘区域中形成所述绝缘保护层,使得用于制造所述绝缘保护层的设备和方法可经简化,从而使制造成本降低。

著录项

  • 公开/公告号CN101478032A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2009-07-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 周星工程股份有限公司;ADS有限公司;

    申请/专利号CN200810187375.8

  • 发明设计人 李亨燮;李圭桓;权宁浩;

    申请日2008-12-30

  • 分类号H01L51/56;H01L51/48;H01L33/00;H01L31/18;H01L21/28;

  • 代理机构北京律盟知识产权代理有限责任公司;

  • 代理人孟锐

  • 地址 韩国京畿道

  • 入库时间 2023-12-17 22:14:42

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2013-10-23

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):H01L51/56 申请公布日:20090708 申请日:20081230

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2011-03-02

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L51/56 申请日:20081230

    实质审查的生效

  • 2009-07-08

    公开

    公开

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