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供紫外线或近紫外线光穿过的材料以及其应用

摘要

一种供紫外线或近紫外线光穿过的材料以及其应用,适于200纳米光线的绝大部份或至少一部份,以较高而且较稳定的光穿透率通过,包含有二氧化硅、氢氧基、铁、钠等成份,二氧化硅的重量比例为95-99.9%,该氢氧基的比例大于0小于7ppm,该铁的比例大于0小于1.7ppm,该钠的比例大于0小于4.4ppm。另一种可透光材料,适于400纳米而至少为200纳米的光线的绝大部份或至少一部份,以较高而且较稳定的光穿透率通过,包含有二氧化硅、氢氧基、铁、钠等成份,该二氧化硅的重量比例为95-99.9%,该氢氧基的比例大于0小于10ppm,该铁的比例大于0小于1.5ppm,该钠的比例大于0小于2.5ppm。

著录项

  • 公开/公告号CN101481211A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2009-07-15

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 筑光光电股份有限公司;

    申请/专利号CN200810002601.0

  • 发明设计人 刘志勇;

    申请日2008-01-08

  • 分类号C03C3/06;C03C4/08;H01J63/06;F21V9/16;F21V7/00;

  • 代理机构中科专利商标代理有限责任公司;

  • 代理人周长兴

  • 地址 台湾省新竹市

  • 入库时间 2023-12-17 22:10:28

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2011-08-31

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):C03C3/06 公开日:20090715 申请日:20080108

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2009-09-09

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2009-07-15

    公开

    公开

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