法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2011-12-21
发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):C04B35/66 公开日:20090114 申请日:20080826
发明专利申请公布后的视为撤回
2009-03-04
实质审查的生效
实质审查的生效
2009-01-14
公开
公开
机译: 高纯锆或HA,溅射由高纯锆或AND和使用该靶制成的薄膜的靶,以及高纯锆或HA的生产方法以及高纯锆或HA的粉体的制备方法
机译: 高纯锆或HA,溅射由高纯锆或AND和使用该靶制成的薄膜的靶,以及高纯锆或HA的生产方法以及高纯锆或HA的粉体的制备方法
机译: 高纯锆或HA,溅射由高纯锆或AND和使用该靶制成的薄膜的靶,以及高纯锆或HA的生产方法以及高纯锆或HA的粉体的制备方法