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模式相干的双模半导体激光器结构

摘要

一种模式相干的双模半导体激光器结构,其中包括:一基底;一缓冲层,该缓冲层制作在基底上;一下限制层,该下限制层制作在缓冲层上;一多量子阱有源层,该多量子阱有源层制作在下限制层上,该多量子阱有源层为五段结构,两端为锯齿状,中间为平面结构,在中间与锯齿状结构之间的两段结构内注入磷;一上限制层,该上限制层制作在多量子阱有源层上的锯齿状的上面及中间部分;一盖层,该盖层制作在多量子阱有源层及上限制层的上面;一刻蚀阻止层,该刻蚀阻止层制作在盖层上;一欧姆接触层,该欧姆接触层分为五段制作在刻蚀阻止层上;一金属电极层,该金属电极层制作在分为五段的欧姆接触层上。

著录项

  • 公开/公告号CN101316024A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2008-12-03

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学院半导体研究所;

    申请/专利号CN200710099862.4

  • 申请日2007-05-31

  • 分类号H01S5/00;H01S5/34;H01S5/343;

  • 代理机构中科专利商标代理有限责任公司;

  • 代理人汤保平

  • 地址 100083 北京市海淀区清华东路甲35号

  • 入库时间 2023-12-17 21:06:40

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2010-07-21

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):H01S5/00 公开日:20081203 申请日:20070531

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2009-01-28

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2008-12-03

    公开

    公开

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