法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2014-07-02
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L21/82 授权公告日:20110504 终止日期:20130510 申请日:20070510
专利权的终止
2011-05-04
授权
授权
2009-01-07
实质审查的生效
实质审查的生效
2008-11-12
公开
公开
机译: 用于在漆膜上切割纳米结构的设备和系统,以及在塑料膜或薄膜上或暴露于紫外线的情况下,可以在这些表面上涂覆的漆和墨的任何表面,这些漆和墨会在其表面重现衍射晶格,全息图,微透镜,干涉滤光片和光子晶体。
机译: 使用热压粘合,共晶键合和焊接粘合的微机械阵列阵列和电子的集成技术
机译: 微透镜阵列基板,包括微阵列阵列基板的光电设备和投影类型显示设备