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金属微粒分散膜及金属微粒分散膜的制造方法

摘要

本发明提供一种制造不使金属微粒凝聚而是使之高密度地分散在硅氧化膜内的金属微粒分散膜的方法。本发明的金属微粒分散膜的制造方法,其特征在于,通过将有机硅烷进行使侧链上残存羟基或醇盐基的水解和缩聚反应来形成硅氧化膜,使所述硅氧化膜与酸性的氯化锡水溶液接触,接着,通过使所述硅氧化膜与金属螯合物的水溶液接触而使金属微粒分散在硅氧化膜中。

著录项

  • 公开/公告号CN101276124A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2008-10-01

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 株式会社东芝;

    申请/专利号CN200810087861.2

  • 申请日2008-03-26

  • 分类号G02F1/35;C03C14/00;

  • 代理机构北京市中咨律师事务所;

  • 代理人段承恩

  • 地址 日本东京都

  • 入库时间 2023-12-17 20:45:19

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2010-11-24

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):G02F1/35 公开日:20081001 申请日:20080326

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2008-11-26

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2008-10-01

    公开

    公开

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