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用于监控工艺环境中的动态参数的自校正多变量分析

摘要

提供了用于工艺监控的方法和设备。工艺监控包括(i)根据与工艺环境的监控参数相对应的数据,产生工艺环境的多变量分析基准模型;(ii)指定与工艺环境的成熟相关的至少一个监控参数;(iii)收集与监控参数相对应的当前工艺数据,其中包括至少一个经指定的参数;以及(iv)基于至少一个经指定的参数的当前工艺数据来调整多变量基准模型以解释工艺环境的成熟。该方法进一步包括:根据当前工艺数据来产生用于表示工艺环境当前状态的一个或多个当前多变量分析工艺度量;以及将当前工艺度量和调整的基准模型进行比较以确定工艺环境的当前状态是否可接受。

著录项

  • 公开/公告号CN101238421A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2008-08-06

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 MKS仪器股份有限公司;

    申请/专利号CN200680029155.1

  • 发明设计人 U·J·利弗-艾米;L·亨德勒;

    申请日2006-07-05

  • 分类号G05B23/02;

  • 代理机构上海专利商标事务所有限公司;

  • 代理人陈炜

  • 地址 美国马萨诸塞州

  • 入库时间 2023-12-17 20:32:26

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2011-03-23

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):G05B23/02 公开日:20080806 申请日:20060705

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2008-10-01

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2008-08-06

    公开

    公开

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