法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2015-03-18
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C23C 16/42 授权公告日:20121107 终止日期:20140120 申请日:20090120
专利权的终止
2012-11-07
授权
授权
2011-02-02
实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 16/42 申请日:20090120
实质审查的生效
2010-12-22
公开
公开
机译: 能够用于制造制造成膜绝缘膜的材料的光敏组合物,该成膜绝缘膜能够通过使用光照相术来形成孔的材料,以及用于制造包含该绝缘膜的绝缘膜的制造方法,以及用于制造这种绝缘膜的制造方法内置绝缘膜
机译: 绝缘膜材料,使用该绝缘膜材料的成膜方法以及绝缘膜
机译: 绝缘膜材料,使用该绝缘膜材料的成膜方法以及绝缘膜