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液浸式曝光系统、以及用于液浸式曝光的液体的回收方法和供给方法

摘要

一种液浸式曝光系统(1),通过在投影光学装置(121)的光学元件和衬底(111)之间配备的液体(301)来执行曝光过程。液浸式曝光系统(1)包括供给液体(301)的液体供给部分(80)、将来自液体供给部分(80)的液体(301(301b))连续地沿特定方向导入并且在投影光学装置(121)的光学元件和衬底(111)之间的空间充满了液体(301)的状态下执行曝光过程的曝光部分、其对在关于衬底(111)对称的位置上流过曝光部分(110)的液体(301(301a))进行恢复的液体恢复部分(90)、以及回收被液体恢复部分90恢复的液体(301(301c))的液体回收部分(20)。当采用液浸法时液浸式曝光液的特性可以保持稳定,由此能够有利地并连续地实行曝光,并能降低运行成本。

著录项

  • 公开/公告号CN101128916A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2008-02-20

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 JSR株式会社;

    申请/专利号CN200680005696.0

  • 申请日2006-01-20

  • 分类号

  • 代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所;

  • 代理人王以平

  • 地址 日本东京

  • 入库时间 2023-12-17 19:45:36

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2009-09-09

    发明专利申请公布后的视为撤回

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2008-04-16

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2008-02-20

    公开

    公开

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