公开/公告号CN101110366A
专利类型发明专利
公开/公告日2008-01-23
原文格式PDF
申请/专利权人 日月光半导体制造股份有限公司;
申请/专利号CN200610099255.3
发明设计人 陈家庆;
申请日2006-07-21
分类号H01L21/48;H01L23/498;
代理机构北京律诚同业知识产权代理有限公司;
代理人梁挥
地址 中国台湾高雄市
入库时间 2023-12-17 19:37:05
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2009-06-17
发明专利申请公布后的视为撤回
发明专利申请公布后的视为撤回
2008-03-12
实质审查的生效
实质审查的生效
2008-01-23
公开
公开
机译: 在半导体制造过程中自动检测具有散焦曝光区域的裸露基板,涉及基于电流和相对于聚焦参数的统计值确定裸露基板的当前聚焦状态
机译: 光敏树脂组合物,光敏树脂层压板,抗蚀剂图案形成方法和导电图案,印刷线路板,引线框的制造方法,基板和半导体封装
机译: 制造具有第二封装基板的半导体多封装模块的方法,该第二封装基板具有结合到第一封装基板的裸露的金属层导线