增亮膜以及制备和使用所述增亮膜的方法

摘要

本发明公开了一种包含底膜的增亮膜，其中计算得到的底膜的应力阻滞梯度小于或等于50纳米/英寸，其中底膜的第一表面具有纹理，且其中光改向结构安置在底膜的第一表面上。