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形成超分子结构的新材料、方法和用法

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摘要

本发明涉及新材料，其在转变温度以下形成超分子结构，包含至少一个C＝O和/或C＝S基团，和至少一个N－H、O－H和/或S－H基团，且其中该材料具有结构：A(－X－B)

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2012-11-14

授权

授权
2011-01-19

专利申请权的转移 IPC(主分类):C08L101/02 变更前: 变更后: 登记生效日:20101209 申请日:20061128

专利申请权、专利权的转移
2009-01-28

实质审查的生效

实质审查的生效
2007-06-13

公开

公开

1. 形成超分子结构的新材料、方法和用法 [P] . 中国专利： CN1978536A . 2007-06-13
2. 形成超分子结构的材料、方法和用法 [P] . 中国专利： CN1978536B . 2012.11.14
3. New material forming supramolecular structures, process and uses [P] . ES2557155T3 . 2016-01-22

机译：形成超分子结构的新材料，工艺和用途
4. New materials, processes and applications that form supramolecular structures [P] . 日本专利： JP5800863B2 . 2015-10-28

机译：形成超分子结构的新材料，新工艺和新应用
5. NEW MATERIAL FORMING SUPER-MOLECULAR STRUCTURE, PROCESS AND USE [P] . 日本专利： JP2013241419A . 2013-12-05

机译：新材料成型的超分子结构，过程和用途