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用于微波样品制备系统中的理想气体控制压力系统

摘要

一种用于微波样品制备系统中的理想气体控制压力系统。为了使在微波样品制备系统中的压力测试系统精确且无污染,发明了一种气体控制压力系统。本发明使用的是压力二通阀、塞子与压力传感器相结合。其原理为使用气体传递压力,而不是常规的水压或油压。本发明结构简单,操作方便,且可以防止污染。

著录项

  • 公开/公告号CN1963714A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2007-05-16

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 北京雷明科技有限公司;

    申请/专利号CN200510109078.8

  • 申请日2005-10-19

  • 分类号G05D16/00;G05D16/14;

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 100022 北京市朝阳区双花园南里一区10号4-202

  • 入库时间 2023-12-17 18:33:38

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2009-04-22

    发明专利申请公布后的视为撤回

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2007-07-11

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2007-05-16

    公开

    公开

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