改变膜的刻蚀选择性的方法

摘要

一种构图晶体膜的方法。提供具有退化晶格的晶体膜，所述退化晶格包括在第一区和第二区中的第一原子。掺杂剂代替了所述第一区中的所述第一原子，以在所述第一区中形成非退化晶体膜。第一区和第二区暴露于湿刻蚀剂，其中该湿刻蚀剂刻蚀所述第二区中的退化晶格，而不刻蚀第一区中的非退化晶格。