首页> 中国专利> 用脉冲射频等离子体控制薄膜制备中的尘埃颗粒的方法

用脉冲射频等离子体控制薄膜制备中的尘埃颗粒的方法

摘要

本发明属于低温等离子体化学领域。其特征是:对射频电源进行脉冲调制,就是使射频在一段时间内输出(射频工作),下一段时间内不输出(射频休止),二者交替进行,即射频工作方式是脉冲的;对射频电源可以一重调制,也可二重或多重调制;调节脉冲调制的频率和占空比,控制尘埃颗粒的大小,并在射频休止时间内将尘埃颗粒抽走;在这个阶段,可以选择适当的尘埃颗粒让其掺入制备的薄膜中。本发明的效果和益处是可控制等离子体中尘埃颗粒的大小,可对薄膜的性质进行适当的控制,可广泛用于沉积薄膜的各种领域,带来巨大的经济效益。

著录项

  • 公开/公告号CN1873052A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2006-12-06

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 大连理工大学;

    申请/专利号CN200610076998.9

  • 发明设计人 张鹏云;

    申请日2006-04-14

  • 分类号C23C16/52;C23C16/505;

  • 代理机构大连理工大学专利中心;

  • 代理人侯明远

  • 地址 116024 辽宁省大连市甘井子区凌工路2号

  • 入库时间 2023-12-17 17:55:29

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2009-03-25

    发明专利申请公布后的视为撤回

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2007-01-31

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2006-12-06

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号