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低多分散性可光成像的聚合物、光致抗蚀剂和微版印刷术

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摘要

本发明涉及可用于光成像的低多分散性共聚物和光致抗蚀剂组合物，还涉及使用这些组合物的光成像法。本发明的低多分散性共聚物使用RAFT(可逆加成裂解链转移)聚合之类的受控自由基聚合(CRP)技术制备。

公开/公告号CN1856741A

专利类型发明专利
公开/公告日2006-11-01

原文格式PDF
申请/专利权人 E.I.内穆尔杜邦公司;
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申请/专利号CN200480026226.3
发明设计人 A·E·费林;M·菲德;F·L·查特三世;
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申请日2004-09-22
分类号G03F7/004(20060101);C08F220/10(20060101);C08F220/22(20060101);C08F232/00(20060101);C08F2/32(20060101);
代理机构31100 上海专利商标事务所有限公司;
代理人沙永生
地址美国特拉华州
入库时间 2023-12-17 17:55:29

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2010-12-29

发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):G03F7/004 公开日:20061101 申请日:20040922

发明专利申请公布后的视为撤回
2008-10-08

专利申请权、专利权的转移(专利申请权的转移) 变更前: 变更后: 登记生效日:20080912 申请日:20040922

专利申请权、专利权的转移(专利申请权的转移)
2006-12-27

实质审查的生效

实质审查的生效
2006-11-01

公开

公开

1. 低多分散性可光成像的聚合物、光致抗蚀剂和微版印刷术 [P] . 中国专利： CN1856741A . 2006-11-01
2. 低多分散性可光成像的丙烯酸类聚合物、光致抗蚀剂和微平版印刷法 [P] . 中国专利： CN1853139A . 2006-10-25
3. OXABICYCLO COMPOUNDS USEFUL AS PHOTOREACTIVE MONOMER OF PHOTORESIST POLYMER, PREPARATION METHOD THEREOF, PHOTORESIST POLYMER CONTAINING THE SAME, AND METHOD FOR PREPARING PHOTORESIST MICRO-PATTERN USING THE SAME [P] . 韩国专利： KR100419028B1 . 2004-02-04

机译：用作光致抗蚀剂的光致反应性单体的氧杂化合物，其制备方法，包含相同的光致抗蚀剂的聚合物以及使用相同的光致抗蚀剂微粉的制备方法
4. OXABICYCLO COMPOUNDS USEFUL AS PHOTOREACTIVE MONOMER OF PHOTORESIST POLYMER, PREPARATION METHOD THEREOF, PHOTORESIST POLYMER CONTAINING THE SAME, AND METHOD FOR PREPARING PHOTORESIST MICRO-PATTERN USING THE SAME [P] . 韩国专利： KR100419028B1 . 2004-07-19

机译：用作光致抗蚀剂的光致反应性单体的氧杂化合物，其制备方法，包含相同的光致抗蚀剂的聚合物以及使用相同的光致抗蚀剂微粉的制备方法
5. Low-polydispersity photoimageable acrylic polymers, photoresists and processes for microlithography [P] . 美国专利： US7696292B2 . 2010-04-13

机译：低多分散性可光成像的丙烯酸聚合物，光刻胶和微光刻工艺