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Copolymers with Well-Controlled Molecular Weight and Low Polydispersity for 193 nm Photoresists

机译：具有良好控制的分子量和低多分散性的共聚物，用于193nM光致抗蚀剂

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作者
Ting-Yu Lee; Chao-Ying Yu; Meei-Yu Hsu; R. Hayashi; T. Iwai; Jian-Hong Chen; Bang-Ching Ho;
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年度 2003
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1. Copolymers with Well-Controlled Molecular Weight and Low Polydispersity for 193 nm Photoresists [J] . Ting-Yu Lee, Chao-Ying Yu, Meei-Yu Hsu, Journal of Photopolymer Science and Technology . 2003,第4期

机译：具有良好控制的分子量和低多分散性的193 nm光致抗蚀剂共聚物
2. Synthesis of Narrow Molecular Weight Distribution Norbornene-Lactone Functionalized Polymers by Nitroxide-Mediated Polymerization: Candidates for 193-nm Photoresist Materials [J] . Milan Maric, Zi Jun Wang Polymers . 2014,第2期

机译：一氧化氮介导的聚合反应合成窄分子量分布的降冰片烯-内酯官能化聚合物：193 nm光刻胶材料的候选材料
3. Synthesis of HBPE-b-PS Copolymers with Controlled Molecular Weights and Low Polydispersities via in situ ATRP [J] . Shang Shang, Li Shi-Yun, Wang Yan-Hui, Journal of Turbulence . 2017,第7期

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4. Non-chemically amplified 193-nm top surface imaging photoresist development: polymer substituent and polydispersity effects [C] . Myoung-Soo Kim, Hyoung-Gi Kim, Hyeong-Soo Kim, Conference on advances in resist technology and processing . 1999

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5. Photoresist removal using low molecular weight alcohol. [D] . Krishnan, Sheeja Manchira. 2003

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7. Synthesis of Narrow Molecular Weight Distribution Norbornene-Lactone Functionalized Polymers by Nitroxide-Mediated Polymerization: Candidates for 193-nm Photoresist Materials [O] . Zi Jun Wang, Milan Maric 2014

机译：通过氮氧化物介导的聚合合成窄分子量分布的降冰片烯 - 内酯功能化聚合物：193nm光刻胶材料的候选者
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机译：皮肤敏化低分子量固体环氧树脂（双酚-a-表氯醇共聚物）。

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