公开/公告号CN1800973A
专利类型发明专利
公开/公告日2006-07-12
原文格式PDF
申请/专利权人 三星SDI株式会社;
申请/专利号CN200510048843.X
申请日2005-12-31
分类号G03F1/14;G03F7/20;H05B33/00;
代理机构北京市柳沈律师事务所;
代理人陶凤波
地址 韩国京畿道
入库时间 2023-12-17 17:25:12
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2011-04-20
发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):G03F1/14 公开日:20060712 申请日:20051231
发明专利申请公布后的视为撤回
2006-09-06
实质审查的生效
实质审查的生效
2006-07-12
公开
公开
机译： 用于光刻的柔性光掩模，其制造方法以及使用其的微图案化方法
机译： 用于制造光掩模，光刻设备，制造显示装置的方法，光掩模基板的检查方法和光掩模衬底的检查方法
机译： 用于制造集成电路的光掩模，用于制造集成电路的完成结构二元光掩模，形成光掩模的方法以及对基板进行光刻图形化的方法
