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非挥发性存储单元及其操作方法与非挥发性内存

摘要

一种非挥发性存储单元,包括基底、电荷陷入层、控制栅极、第一导电态的源极、漏极与浅掺杂区以及第二导电态的口袋掺杂区。其中,电荷陷入层在基底上、控制栅极在电荷陷入层上,而在基底、电荷陷入层与控制栅极之间尚各有一介电层。而源极与漏极是分别于电荷陷入层两侧的基底中。浅掺杂区则位于源极与电荷陷入层之间的基底表面,以及口袋掺杂区是位于漏极与电荷陷入层之间的基底内。本发明由于具有不对称且不同导电态的植入结构,因此可增加存储单元的编程速度、防止邻近存储单元间的干扰,还可减少位线选择晶体管所占用的额外面积。

著录项

  • 公开/公告号CN1790716A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2006-06-21

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 旺宏电子股份有限公司;

    申请/专利号CN200410101204.0

  • 发明设计人 徐子轩;施彦豪;

    申请日2004-12-15

  • 分类号H01L27/105(20060101);H01L27/115(20060101);H01L21/8247(20060101);

  • 代理机构11227 北京集佳知识产权代理有限公司;

  • 代理人王学强

  • 地址 台湾省新竹科学工业园区力行路16号

  • 入库时间 2023-12-17 17:20:52

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2008-05-07

    授权

    授权

  • 2006-08-16

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2006-06-21

    公开

    公开

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