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用于电测量缝合掩膜的单向未对准的电阻结构

摘要

一种匹配可变电阻结构、用于电测量缝合掩膜的单向未对准的设备和方法,该掩膜用于蚀刻包括用作测量其间电阻的第一测试垫(101)和第二测试垫(102)的互连层;第一电阻元件(105)在第一端电连接到第一测试垫(101);第二电阻元件(110)在第一端电连接到第二测试垫(102)。第一电阻元件和第二电阻元件由垂直偏移(112)电连接。测得的第一测试垫和第二测试垫之间的电阻根据第一电阻元件和第二电阻元件相对于垂直偏移的对准而变化,见图1C-E。指示器可以任意提供电阻元件处于对准的指示。

著录项

  • 公开/公告号CN1723419A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2006-01-18

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 皇家飞利浦电子股份有限公司;

    申请/专利号CN200380105656.X

  • 发明设计人 J·M·阿马托;

    申请日2003-12-04

  • 分类号G03F9/00(20060101);G03F7/20(20060101);H01L23/544(20060101);G01R31/316(20060101);

  • 代理机构72001 中国专利代理(香港)有限公司;

  • 代理人王岳;陈景峻

  • 地址 荷兰艾恩德霍芬

  • 入库时间 2023-12-17 16:55:11

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2011-09-14

    发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):G03F9/00 公开日:20060118 申请日:20031204

    发明专利申请公布后的驳回

  • 2007-09-12

    专利申请权、专利权的转移专利申请权的转移 变更前: 变更后: 登记生效日:20070810 申请日:20031204

    专利申请权、专利权的转移专利申请权的转移

  • 2006-03-15

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2006-01-18

    公开

    公开

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