域扩展ROM介质的处理方案

摘要

本发明涉及一种域扩展存储介质和用于以改进的效率处理这样一种存储介质的基底(40)的处理方法。使用模板掩模通过离子束投射光刻技术来对存储介质的基底的表面结构进行处理以便在存储层(50)中定义磁畴和/或定义轨迹图案和/或伺服图案。由此，复制精度和速度能够得以改善。