退出
我的积分:
中文文献批量获取
外文文献批量获取
公开/公告号CN1643452A
专利类型发明专利
公开/公告日2005-07-20
原文格式PDF
申请/专利权人 先进微装置公司;
申请/专利号CN02825172.5
发明设计人 C·A·博德;A·J·帕萨丁;
申请日2002-06-27
分类号G03F7/20;
代理机构11245 北京纪凯知识产权代理有限公司;
代理人戈泊;程伟
地址 美国加利福尼亚州
入库时间 2023-12-17 16:21:02
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2010-05-05
授权
2005-09-14
实质审查的生效
2005-07-20
公开
机译: 用于图案引起的畸变和位移的前馈覆盖校正的方法和系统,以及使用这种方法和系统的光刻投影设备
机译: 使用前馈叠加信息的光刻叠加控制
机译:使用CGS的光刻工艺中的前馈覆盖控制
机译:单面双图案光刻技术,可降低成本并改善覆盖控制
机译:使用多个空中机器人开发全球最佳覆盖控制
机译:使用CGS技术进行光刻过程中的覆盖控制的前馈策略研究
机译:使用遥感和地理信息系统创建土地使用和土地覆盖图,并确定十年内土地使用和土地覆盖的变化。
机译:CoCMA:使用模因算法的基于群集的无线传感器网络中的节能覆盖控制
机译:使用改进的遗传算法,无线传感器网络中的节能覆盖控制
机译:结合s空间和图像空间信息,使用aVIRIs数据表征土地覆盖元素