等离子体CVD薄膜形成设备以及制造镀覆有CVD薄膜的塑料容器的方法

摘要

本发明公开了一种等离子体CVD薄膜形成设备。对于常规的CVD薄膜成形设备，必须要将外电极限定为中空结构，该中空结构包括一用于容纳容器的空腔，且该空腔的形状要大体上类似于容器的外部形状，本发明消除了这一缺陷。本发明等离子体CVD薄膜成形设备的特征在于：向相互分离的外电极内壁面与容器内壁面之间形成的空间内输送一种容器外气体，由此，在利用CVD方法形成薄膜的过程中，由容器外气体生成的等离子体作为导体而向容器的外壁面传输高频能量，从而获得了这样的状态—该状态等同于外电极内壁面与塑料容器外壁面保持接触时的状态，这样就可以向容器的内壁面施加一个均匀的自偏电压。