用于真空加工腔室的控制、抽吸和去除的设备和方法

摘要

本发明是用于对多个真空加工腔室控制压力、抽真空和提供去除作用的设备和方法。该系统可以用在半导体制造中。由多台涡轮泵将多个真空加工腔室排气入一公共的去除腔室，一台初级抽气泵将该公共的去除腔室保持在低于大气压力的压力。独立地控制诸加工腔室内的压力。该去除装置的内部容积提供了减少一个加工腔室内的压力变化对其它腔室内的压力的影响的缓冲。