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牺牲层腐蚀技术制造的带压敏电阻的纳米梁谐振器

摘要

一种牺牲层腐蚀技术制造的带压敏电阻的纳米梁谐振器,包含纳米梁谐振器及其金属电极,纳米梁谐振器是在绝缘层上硅(SOI)材料上用牺牲层腐蚀技术制作出的纳米梁,并在纳米梁及其两端掺杂形成一个压敏电阻。本发明制作工艺简单,与NEMS工艺兼容,又与静电驱动配合,实现纳米梁谐振器的结构、驱动及检测三者全集成。为纳米梁谐振器降低成本、推广应用范围起到很好的作用。

著录项

  • 公开/公告号CN1625047A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2005-06-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 浙江大学;

    申请/专利号CN200410089178.4

  • 申请日2004-12-01

  • 分类号H03H9/125;

  • 代理机构杭州中成专利事务所有限公司;

  • 代理人崔勇才

  • 地址 310027 浙江省杭州市西湖区浙大路38号信息学院

  • 入库时间 2023-12-17 16:12:33

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2009-01-14

    发明专利申请公布后的视为撤回

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2005-08-17

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2005-06-08

    公开

    公开

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