用脉冲电弧等离子体蒸发离化源制备纳米多层膜的方法

摘要

本发明采用脉冲矩形波的中频电源中的低频段，即频率范围低于100KHZ，施加于等离子体加速器型蒸发离化源。用控制数字电路控制脉冲数的方法来控制镀材蒸发量，控制1000次一10000次脉冲，相当于脉冲弧源开启2.8秒－28秒之间可调，从而可在工件上沉积获得的纳米膜厚度在5nm－50nm之间可调。设计沿圆柱真空镀膜室的圆周，均匀分布A、B两种或A、B、C三种镀材靶，交替或顺序开启或关闭这些蒸发离化源电源，以获得A、B，或A、B、C多层相间的纳米膜。即使工件转架不转动，此方法也可在工件上获得纳米多层膜。工件转架低速旋转，只是为了对各种镀材的镀膜时间段，获得较均匀的纳米膜层。