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通过使用N型嵌入层改进静电放电NMOS的触发

摘要

一种ESD NMOS结构具有奇数个建立在一个P型阱(6)中的N型结构(4a-4g)。嵌入的N型结构(NBL)被置于该N型结构之间。中央的N型结构和每个交替的N型结构被相互电连接,到该嵌入的N型结构,并且连接到输出接头(14);而其它N型结构被相互电连接并且连接到该P阱和“地”(10)。当出现一个正向ESD事件时,在该N型嵌入结构和该N型结构之间的P阱中创建一个耗尽区,从而增加该结构的电阻率。另外,当出现正向ESD事件时,在该中央N型结构的两侧的支路NPN晶体管击穿并且快速恢复。结果电流通过增加电阻的区域,从而从该中央N型结构向着末端N型结构产生较大的电压。该增加的电阻率和较高的电压作用的组合降低该ESD结构的触发电压。

著录项

  • 公开/公告号CN1568547A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2005-01-19

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 快捷半导体有限公司;

    申请/专利号CN02820258.9

  • 发明设计人 罗纳德·布雷特·赫尔法克;

    申请日2002-10-18

  • 分类号H01L23/62;

  • 代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所;

  • 代理人朱海波

  • 地址 美国缅因

  • 入库时间 2023-12-17 15:51:36

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-12-08

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L23/62 授权公告日:20071107 终止日期:20161018 申请日:20021018

    专利权的终止

  • 2007-11-07

    授权

    授权

  • 2005-03-16

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2005-01-19

    公开

    公开

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