公开/公告号CN1507652A
专利类型发明专利
公开/公告日2004-06-23
原文格式PDF
申请/专利权人 东京毅力科创株式会社;
申请/专利号CN02809527.8
申请日2002-04-03
分类号H01L21/3065;
代理机构北京纪凯知识产权代理有限公司;
代理人龙淳
地址 日本国东京都港区赤坂五丁目3番6号
入库时间 2023-12-17 15:26:25
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2017-05-24
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L21/3065 授权公告日:20060920 终止日期:20160403 申请日:20020403
专利权的终止
2006-09-20
授权
授权
2004-09-01
实质审查的生效
实质审查的生效
2004-06-23
公开
公开
机译: 涂布剂,具有由该涂布剂形成的涂膜的耐等离子体性成分,具备该耐等离子体性成分的等离子体处理装置
机译: 涂布剂,耐等离子体成分具有由涂布剂,耐等离子体成分提供的等离子体处理装置形成的涂膜。
机译: 涂布剂,耐等离子体成分具有由涂布剂,耐等离子体成分提供的等离子体处理装置形成的涂膜。