光刻胶沉积设备以及使用该设备形成光刻胶薄膜的方法

摘要

提供一种光刻胶沉积设备以及一种使用该设备形成光刻胶薄膜的方法。光刻胶沉积设备包括：真空室(它包括在其上加载基片的基片支架)，连接于真空室的光刻胶存储罐，以及连接于光刻胶存储罐的压电装置(它把在光刻胶存储罐中存储的液态光刻胶汽化为雾化的光刻胶以向真空室提供雾化光刻胶)。由于在光刻胶存储罐中汽化液态光刻胶，并且在稀薄的大气压下在真空室中把雾化的光刻胶沉积为光刻胶薄膜，所以可以大大改善最终光刻胶薄膜的厚度均匀性。由于不需要高速旋转基片，所以可以防止对基片的损害。此外，由于光刻胶沉积设备在光刻胶沉积期间使用了边缘覆盖层，所以不需要从基片边缘去除不需要光刻胶的附加工序，由此改进了制造合格率并降低了制造成本。