在使用具有预数值孔径控制的照射系统的光刻装置中改善线宽控制的系统和方法

摘要

一种在光刻装置中控制线宽变化的系统和方法。照射源发出电磁能量并穿过照射光学组件。照射光学组件包括具有第一和第二光学元件的部分相干性调节组件。第一光学元件，以预定的方式改变入射的电磁能的部分相干性，以补偿水平和垂直线偏移，第二光学元件，改变入射到所述第一光学元件上的电磁能的角分布。使用这两个光学元件一起根据照射场位置改变照射源发出的电磁能的部分相干性，并改善了线宽控制。调节第二光学元件允许校正与时间相关的线宽变化。