聚焦、位置测量、曝光及元件制造的方法及曝光装置

摘要

本案可以在不拘光罩的反射特性下，高精确度地实现一高产出率的对焦调整。其主要是将一可观察第一物体，并可通过第一物体与第一光学系组观察第二物体的第二光学系组的聚焦位置，对准于第一物体上的特定表面。其包含有：步骤(S8)，用以相对于第一光学系组，将第二物体上的特定表面，对准于一与第一物体上的特定表面呈光学共轭的位置上；以及步骤(S10)，其通过第一光学系组，使第二光学系组的聚焦位置，对准于第二物体上的特定表面。