公开/公告号CN1412346A
专利类型发明专利
公开/公告日2003-04-23
原文格式PDF
申请/专利权人 黑龙江省光电技术研究所;
申请/专利号CN01136303.7
申请日2001-10-09
分类号C23C16/27;C23C16/503;
代理机构
代理人
地址 157000 黑龙江省牡丹江市光华街106-1号
入库时间 2023-12-17 14:44:30
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2005-07-06
发明专利申请公布后的视为撤回
发明专利申请公布后的视为撤回
2003-04-23
公开
公开
机译: 一种基于辉光放电等离子体化学气相沉积技术,利用CR和NI的金属有机前驱体生产CRN和NI的NI涂层和复合涂层
机译: 金刚石薄膜及激光烧蚀结合高压放电等离子体化学气相沉积形成块体的方法
机译: 金刚石薄膜及激光烧蚀结合高压放电等离子体化学气相沉积形成块体的方法