公开/公告号CN1377509A
专利类型发明专利
公开/公告日2002-10-30
原文格式PDF
申请/专利权人 瓦里安半导体设备联合公司;
申请/专利号CN00813878.8
发明设计人 安东尼·丽奥;
申请日2000-09-18
分类号H01J37/317;H01J37/147;
代理机构72002 永新专利商标代理有限公司;
代理人过晓东
地址 美国马萨诸塞州
入库时间 2023-12-17 14:27:51
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2005-03-16
授权
授权
2003-01-15
实质审查的生效
实质审查的生效
2002-10-30
公开
公开
2002-10-09
实质审查的生效
实质审查的生效
机译: 低离子注入装置,可改善能量离子束传输
机译: 激光等离子体加速器中用于低激光能量电子注入的冲击注入器
机译: 用于制造连续的单能量离子束的方法和装置,特别是用于传输时间-质谱法的方法和装置