用于旋转蚀刻平面化的组合物与方法

摘要

本发明描述了用于表面,特别是铜和钽表面的旋转蚀刻平面化的方法与组合物。蚀刻溶液通过喷嘴,优选地通过摆动喷嘴与旋转晶片的上面接触。蚀刻溶液具有氧化旋转表面,在其表面上形成钝化层的组成。蚀刻溶液还含有除去钝化层,让下面层表面暴露以达到所要求的表面蚀刻的反应剂。调节蚀刻溶液的特性,以致到表面较低部位的反应剂扩散限制其蚀刻速率。处在蚀刻溶液移动较快的表面的较高部位的反应进行较快,从而导致所要求的平面化。